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フォトレジストはこんな理由がありますねw

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もう政府と業界はアメリカデュポン社の国内生産施設投資を誘致するなど供給網多変化努力をはかった. 国内業社であるドングジンセミケムが 200億ウォンをかかって工場を建てるなど国産化努力もつながった. しかし日本産 EUV用フォトレジスト収入額自体はむしろ増える姿を見せた. 日本企業等は規制を避けるために韓国内生産施設で増産を推進することと伝わる.

こんな状況で三星SDIが EUV用フォトレジストを開発したら事業多変化を成す同時に三星電子などが日本産素材依存度を減らすにも役に立つ見込みだ. その間三星SDSは露光公正で 2次バングオマック役目をする SOH(Spin-on Hardmask), 金属導線の間を縁切りする SOD(Spin-on Dielectrics), Wafer表面研磨嶺であるスラー里などを開発・供給して来た.

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포토레지스트는 이런 이유가 있군요w

이제 정부와 업계는 미국 듀폰사의 국내 생산시설 투자를 유치하는 등 공급망 다변화 노력을 꾀했다. 국내 업체인 동진쎄미켐이 200억원을 들여 공장을 짓는 등 국산화 노력도 이어졌다. 하지만 일본산 EUV용 포토레지스트 수입액 자체는 오히려 늘어나는 모습을 보였다. 일본 업체들은 규제를 피하기 위해 한국 내 생산시설에서 증산을 추진하는 것으로 전해진다.

이런 상황에서 삼성SDI가 EUV용 포토레지스트를 개발한다면 사업 다변화를 이루는 동시에 삼성전자 등이 일본산 소재 의존도를 줄이는 데도 도움이 될 전망이다. 그동안 삼성SDS는 노광 공정에서 2차 방어막 역할을 하는 SOH(Spin-on Hardmask), 금속도선 사이를 절연하는 SOD(Spin-on Dielectrics), 웨이퍼 표면 연마재인 슬러리 등을 개발·공급해왔다.

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