韓国SKハイニックス、キヤノン製の半導体露光装置を導入…「3D NANDを高度化」
2023/05/05 10:58
▲京畿道利川市にあるSKハイニックスM16工場の全景/同社提供
SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。
2025年ごろに同装置を使い、3D(3次元)NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。
半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。
業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線(EUV)露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。
最後は結局、日本の技術に頼る朝鮮半導体!^_^