半導体, 半分値で作る技術開発
| 記事入力 2011-06-30 10:51
韓国機械研究員ホ民博士が半導体汚染物質処理用プラズマ反応期を見守っている. [アジア経済李英哲記者] 親環境半導体公正に入る費用を半分で減らすことができる技術が開発された.
が技術は特に半導体公正で排出される地球温暖化ガスを 99 % 以上減らすことができて環境汚染を阻む特徴がある.
韓国機械研究員(院長李上天) ソングヤングフンプラズマ資源研言い立て博士チームは中小企業庁先端装備活用技術開発事業である ‘半導体/LCD 公正ガス清浄化及び真空ポンプ寿命向上技術開発(参加企業: エルオティベキュム)’を通じて半導体公正から出る地球温暖化ガスを画期的に竝びながら真空ポンプの寿命も伸ばすことができるプラズマ公正ガス処理技術を開発した.
既存に海外で開発された半導体公正ガス処理のためのプラズマ技術は高い設備価格と高い維持補修費用で商用化が易しくなかった. しかし新たに開発された技術はプラズマ発生のための装置を単純化させて設備価格を半分以下で低めた.
も既存半導体公正では公正を終えて大気に排出される公正ガスをエネルギー消耗が多い焼却公正を通じて処理して来た. 焼却設備の初期取付費は低いが, 排出ガスに含まれた地球温暖化ガスの処理が難しくて焼却燃焼の時の窒素酸化物のような 2次汚染源が発生される問題点があった. また 24時間連続運転が不可避でエネルギー消耗が多かった.
ソングヤングフン博士チームは真空プラズマを利用した新しい技術で 2次汚染源が発生されないようにした. また半導体公正で排出される地球温暖化ガスを処理する場合にだけ作動してエネルギー費用が既存焼却公正の 10%に過ぎない.
が設備は全世界的に年間 3000億ウォン規模である半導体公正ガス焼却設備を取り替えることができるように見える.
ソングヤングフン博士は “新しい技術は粒子副産物たちも同時に処理することができて真空ポンプの寿命延長にも大きくお手助けになることで期待される”と “今度技術開発で親環境的な半導体公正のために多くの投資と努力を傾けている国内外半導体業界に及ぶ影響が大きいこと”と言った.