世界最初… 韓国研究陣また事故を起こした
| 記事入力 2012-10-22 11:42 | 最終修正 2012-10-23 17:21 KAIST 長期株教授チーム, 画期的集積度取り揃えた半導体具現可能になって
次世代半導体素子素材で脚光を浴びているシリコーンナノ船の電気流れと直結された不純物特性が国内研究陣によって世界最初に糾明された.
KAISTは物理学科長期株特訓教授チームが酸化処理されたシリコーンナノ船で電気を経つようにするために添加した不純物ホウ素(B), イン(P) などの動きと非活性化を起こすメカニズムを糾明したと 22日明らかにした.
シリコーンナノ船を半導体素子で適用しようとすればインまたはホウ素のような不純物を添加して電気が経つように変形しなければならない. しかし固まり形態の既存シリコーンに比べてナノ船では不純物添加が難しいだけでなく電気伝導特性を調節しにくい問題があった.
章教授チームは既存理論を改善した画期的養子シミュルレーション理論を考案して実際と非常に近くのコア-シェル原子モデルを作った.
研究チームはこれを通じてシリコーンコア内部に添加されたホウ素不純物が酸化過程でコアを包んでいる酸化物皮で易しく抜ける原因を極めた.
またイン不純物は酸化物にくぐることができないがお互いに電気的に非活性化になった番を成しながら精工が生ずる效率を減少させるという事実も確認した.
長期株教授は “今度研究方法はシリコーンと酸化物の間のコア-シェルナノ船モデルを具現する理論研究の基本模型で受けられることで期待される”と “今後のより画期的な集積度を持った半導体を具現することができることで期待される”と言った.
今度研究結果はナノ科学分野世界的学術誌である ‘ナノレタス’ オンライン版に載せられた.
大徳=グボンヒョックギザ nbgkoo@sed.co.kr