大量供給... 今年戦死売上げ 80% 以上増加見込み
地元半導体蒸着装備業社留陣テックが日本故区間を押し出して三星電子半導体事業部から原子層蒸着(ALD) 装備を大量受注するゼックパッを噴き出した.
留陣テックはこの装備供給のために去る数年間研究開発(R&D)に邁進した. 三星電子はその間日本故区間に 100% 寄り掛かった ALD 装備を二元化することで購買交渉力を高めるようになった.
6日業界によれば留陣テックは最近三星電子から 13代の ALD 装備発注を受けた. 現在三星電子平沢 Dラム神さま工場に順に供給の中だ. 会社監査に明るい関係者は "留陣テック協力社たちの間では全体靴契約物量が 30代が超えるという消息が伝わっている"と "が同じ物量に合わせて資材を用意中"と説明した.
業界では該当の装備を配置(Batch, 一括処理) あるいはファーニス(Furnace) タイプ ALD 設備と呼ぶ. チャンバに一枚ずつWaferを入れて加工するのではなくいくつかを入れて処理する方式だ. 均一膜質を保障することができるほどに精巧に作ったら, 処理量を大きく高めることができる. 三星電子はただ故区間からこの装備を調逹して来た. 現在三星電子 Dラム生産ラインには故区間装備数百対価設置されていることと伝わる.
留陣テックは今度供給件で会社位相が一段階高くなるようになった. その間主に供給して来た一般化学気象蒸着(CVD) 装備台だ価格が 30‾40億ウォンなら ALD ファーニス装備価格は 60‾70億ウォンに達するということが業界専門家たちの説明だ. 故区間装備は台当り 100枚未満のWaferを入れて処理することができたが, 留陣テックが今度供給する装備は 150枚を処理する. 技術優位を証明したわけだ.
留陣テックは今年売上高展望値は 3700億ウォン水準だ.