成均館大ソングギュンナノ−グァハックギスルワン研究チーム, 単一分子層 DNA 人工構造物初製作
| 記事入力 2011-10-18 14:09 | 最終修正 2011-10-18 17:30 
成均館大学ソングギュンナノ−グァハックギスルワン(SAINT)の朴盛夏・路用した教授が指導する李ジュンの(修士博士統合過程)・キム・ソンホ(修士課程) 研究チームが電気的人力を通じるナノメートル(nm) 水準の正確度を持った単一分子層 DNA 人工構造物製作に成功した.
李ジュンの・キム・ソンホ研究チームの ‘シリカ(Silica) 基板を利用した選択的単一分子層 DNA 人工構造物製作及び形成方法’ 論文は著名国際学術誌 ‘アンゲバンテセーミ’ 国際版に最近載せられた.
が研究は既存のボトムアップ製作方式の制御限界を選択的なシリカ表面の電荷量調節を通じてナノメートル水準の正確度を持った DNA 人工構造物を形成した.
これは今後の DNA 単一分子層を利用した物理的, 化学的素子製作に適用することができる連結の輪を提供したという点で意義が大きい.
DNA 分子自体が持つ固有した性質をそのまま維持するから多様な応用分野に接木されることができて相当な波及効果が期待される.
鄭素影記者 syjung@etnews.com