開発された SiC Power MOSFET チップと 完成 素子
KERI, 国内最初 1200V級 SiC 全力(電力)半導体商用化成功アメリカ日本に引き続き世界 3番目, 2016年まで 280億新規売上げ期待2014.01.23 11:45:11
韓国電気研究員(院長金豪勇)は韓国エネルギー技術評価院の全力(電力0サンアップユングハブワンチォンギスルゲバルサアップに進行された国策課題を通じて国内全力(電力)半導体専門企業であるメープルセミコンダクター(株)と 1200V級シリコーンカーバイド電力素子 MOSFET(SiC Power MOSFET) 2種を国内最初に開発したと 23日明らかにした.
韓国電気研究員(以下 ‘KERI’)は去年 6月メープルセミコンダクター(代表丁銀式)と次世代 SiC 全力半導体技術移転契約を結んで SiC 全力(電力)半導体開発に力をつくして来た. 今度商用化技術開発は KERIが保有している SiC 全力(電力)半導体核心技術である高温・故エネルギーイオン注入公定技術, 低い接触抵抗形成公定技術, ハイクオリティー窒化処理ゲイトサンファマック形成及び低い漏洩電流のためのペシベイション(passivation) 公定技術などが適用されたし, メープルセミコンダクター(株)の全力(電力)半導体梁山経験と公定技術が接木されて成功するようになった.
KERIは 1999年から SiC 全力(電力)半導体を開発し始めた以来現在国内外特許 40余件を保有した国内 SiC 全力半導体技術の先頭走者で, 今度開発の核心公正のための高温/故エネルギーイオン注入装備を取り入れてすべての核心公正を国産化するなど技術開発に拍車をかけて来た.
開発責任者である金尚哲 KERI 全力(電力)半導体センター責任研究員は “今度開発は先進国が技術移転を憚る戦略分野から純粋国内技術でアメリカ, 日本に引き継いだ世界 3番目商用化技術開発であり, SiC 全力半導体分野で世界的な技術水準に到逹したことを見せてくれる“その言った.
SiC 全力半導体は既存のシリコーン全力(電力)半導体より效率が高くて高温でも安定的に動作してグリンカ(xEV)と新材生エネルギー用インバーターに適用可能な次世代全力(電力)半導体だ. 一部先進メージャー業社たちも最近には技術開発に成功して商品化した位に設計及び公正がとても難しいことと知られた.
全世界全力(電力)半導体市場は現在 170億ドル規模で, この中 SiC 全力(電力)半導体市場は現在 8000万ドル水準だが, 2018年には梁山業社増加とグリンカ(xEV) などの需要に負って 20億ドルまで成長することと見込まれる.
一方, メープルセミコンダクター(株)は開発成功された 1200V 10A, 40A SiC Power MOSFETと関連, 2014年に公正最適化及び信頼性検証を経って 2015年に本格的に量産を開始する計画だ. 内需市場はもちろん海外市場まで売り口を開拓して 2015年 80億ウォン, 2016年 200億ウォンの新規売上げを期待している.
<用語解釈>
* SiC: シリコーンカーバイド(Silicon Carbide. 炭化誦素). SiCは既存シリコーン全力半導体より高電圧, 高温で作動することができるし全力(電力)損失も減らすことができて宇宙航空, 自動車電子装備, 発光素子などに使うことができるし次世代半導体公正では除くことができない核心素材だ. 現在 SiCを活用した製品は半導体公正の収率向上と公正效率改善のために使用量が増加されている.
* MOSFET: Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor. 金属サンファマック半導体電界效果トランジスター.
* 高温/故エネルギーイオン注入装備 : SiC 全力半導体の pn 接合構造を形成させるために高いエネルギーに加速されたイオンを SiC Wafer表面に注入させる装備で国内には韓国電気研究員が唯一に保有している.
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