DNA 利用 2 ナノメートル級半導体作る!
| 記事入力 2012-02-07 12:01 [エングコメント]
全世界的に半導体小型化のための開発競争が熾烈に展開されていますよ.
私たち研究陣が DNAを利用して現在常用化された 20ナノメートル級半導体より用量を 100倍以上進めることができる次世代半導体源泉技術開発に成功しました.
里程優記者です.
[レポート]
空想科学小説や映画から出たヒューマノイド.
我がのそばに現実に現れています.
DNAを利用して 2nm級半導体を作ることができる源泉技術が KAIST ギムサングウック教授チームによって開発されました.
その間 10nm 以下の半導体製作は不可能だと知られて来たが DNA, すなわち新しい物質を利用して 2nm 以下の半導体を作ることができる源泉技術開発に成功したのです.
研究チームは ¥"DNA サスルゾブギ¥"と呼ばれる最尖端ナノ構造製作技術を利用すれば金属ナノ粒子や炭素ナノチューブを微細な構造で精緻に調節することができる点に着眼しました.
[インタビュー:ユンゼムン, KAIST 新素材工学と助教授]
DNAが塩基序列規則にしたがって自分の組み立てをすることができるのにその特徴を利用して回路基板に微細パターンを具現することができます.
DNAのこの中螺旋構造自体が 1nmの回路線幅を持っていて微細パターンを形成して半導体に活用することができる原理です.
2nm級半導体は切手大きさのメモリー半導体に高画質映画 10,000編を保存することができる世界最で水準です.
現在常用化された半導体より 100倍以上集積度を高めることができるこの技術の活用範囲は限りないことで期待されます.
DNA 半導体の透明性と柔軟性を活用して人体の脳と生体内に移植することができて一言でヒューマノイドなどを作るのに活用することができるというのです.
[インタビュー:ギムサングウック, KAIST 新素材工学と教授]
DNAのサスルゾブギを利用して世界最初でとても柔軟ながらも透明で電気をよく通じることができるそうピン類でとても押そう線幅を作る技術を最初に開発した点が重要な点です.
今度研究結果は化学分野世界最高権威誌である ¥"アングゲバンテセーミ(Angewandte Chemie International Edition)¥" 1月号に表紙論文で載せられたし, 関連技術は国内外特許出願を終えました.
YTN 里程優[ljwwow@ytn.co.kr]です.
ヒューマノイド商用化技術が韓国で世界最初で開発された...!!! 動画はミッエソスをクリック! http://news.naver.com/main/read.nhn?mode=LSD&mid=tvh&sid1=308&oid=052&aid=0000393401