三星, EUV 公正に国産 “ブランクマスク” 使う - 電子新聞
三星電子が極子外線(EUV) 公正に国産 “ブランクマスク”を取り入れる. ブランクマスクは半導体回路を刻む時必須に使われるフォトマスクの原材料で, 三星電子が EUV 公正に国産マスクをかけることは初めてだ. その間海外寄り掛かったブランクマスクの国産化と供給網多変化が切迫した.
12日業界によれば三星電子は 2半期適用を目標で国内エスエンエステックの EUV ブランクマスクを評価の中だ. 現在最終仕上げ段階になれば今月中, 遅くても来月に完了することと知られた. 事案に明るい業界関係者は “評価が追いこみに至った”と “2半期導入を予定している”と言った.