20ナノフラッシュメモリー商用化難関過ぎた
| 記事入力 2011-11-21 12:02
造兵陣教授チーム, ¥"そうピン¥" 電極で性能 1万倍改善
(ソウル=連合ニュース) 信号頃記者 = 国内研究陣が ¥"そうピン¥"を電極素材で活用, フラッシュメモリー半導体の性能と寿命を画期的に改善した.
が研究成果を活用すれば 20ナノメートル(nm,10億分の 1m)級フラッシュメモリー商用化を繰り上げることができることで期待される.
教育科学技術部は造兵陣韓国科学技術院(KAIST) 教授が主導した研究チームが次世代フラッシュメモリー(電荷捕獲方式)のゲート(半導体で電子を閉じこめて留守にする器) 電極素材を金属でそうピンに変えてデータ保存時間と寿命を大きくふやすのに成功したと 21日明らかにした.
そうピンは黒煙の炭素原子配列のような模様だが厚さは原子一つ位に過ぎない 2次元の炭素ナノ旧朝体を言う. 易しく言って普通黒煙で一重の原子層をむき出したことで, 電子が早く移動することができて伝導性が非常に良いところだ強盗など物理的性質もすぐれて新素材で注目されている.
現在国内外企業らは先を争って既存 30ナノ級フラッシュメモリーを取り替える 20ナノ級開発のために研究を進行している.
20ナノ級フラッシュメモリーでは電荷損失を阻むために電荷を不導体に閉じこめておいて抜き取る方式の ¥"電荷捕獲方式¥"を使うのに, 大部分現在開発中のこの方式フラッシュメモリーのゲート電極素材はジルファタンタルニュム(TaN) など金属だ.
しかしこのような金属電極電荷捕獲方式のフラッシュメモリーはまだ ¥"150℃以上温度で 10年以上データ保存¥" などの市場要求条件を満たすことができない.
研究陣がフラッシュメモリーで一番の下基板の電子を不導体層で引き上げて留守にするために電圧をかける部分である電極の素材をそうピンに変えると, データ保存時間が 10の 9二乗超まで増えた.
これは既存金属電極フラッシュメモリーの保存時間の 10の 5二乗の 1万倍であるのみならず, 商用化条件である 10年(約 10の 8二乗)より長い時間だ.
データを書いて消すのに必要な電圧差も 10V(ボルト)で 17Vで 70% 位高くなった. フラッシュメモリーではこの電圧差が大きいほどもっとはっきりと情報を記録して消すことができて性能が良いことで評価を受ける.
研究陣の分析によればこのようにそうピン電極を使ったフラッシュメモリー半導体の性能と寿命が好きになることは, 軽い原子一重で成り立ったそうピンの特性のためだ.
金属電極の場合重くて厚くて下置かれたゲートの不導体層(酸化アルミニウム+ジルファマック+二酸化ケイ素など)に機械的ストレスを与えて縁切り部位が損傷されながら電荷が漏れるが, そうピンは基本的にそんな憂慮がないという話だ.
その上に金属は薄く, 軽くすれば代わりに抵抗が大きくなるしかないが, そうピンは薄いが伝導性まで非常にすぐれる.
造兵陣教授は今度研究成果はその間商用化に困難を経験していた 20ナノ級フラッシュメモリー開発に突破口になると何より既存生産公正にすぐ適用することができるし, フラッシュメモリーのみならずネーム・バリューが重要な自動車・国防・医療部門のシステム半導体にも応用されることができると説明した.
が論文はナノ科学分野権威誌である ¥"ナノレタス(Nano Letters)¥" オンライン版に載せられた.
<既存金属電極電荷捕獲方式フラッシュメモリー(左側)とそうピン電極フラッシュメモリー比較>

