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20ナノフラッシュメモリー商用化難関過ぎた

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20ナノフラッシュメモリー商用化難関過ぎた

連合ニュース| 記事入力 2011-11-21 12:02  
src=http://imgnews.naver.com/image/001/2011/11/21/AKR20111121090300017_01_i.jpg
造兵陣教授チーム, ¥"そうピン¥" 電極で性能 1万倍改善

(ソウル=連合ニュース) 信号頃記者 = 国内研究陣が ¥"そうピン¥"を電極素材で活用, フラッシュメモリー半導体の性能と寿命を画期的に改善した.

が研究成果を活用すれば 20ナノメートル(nm,10億分の 1m)級フラッシュメモリー商用化を繰り上げることができることで期待される.

教育科学技術部は造兵陣韓国科学技術院(KAIST) 教授が主導した研究チームが次世代フラッシュメモリー(電荷捕獲方式)のゲート(半導体で電子を閉じこめて留守にする器) 電極素材を金属でそうピンに変えてデータ保存時間と寿命を大きくふやすのに成功したと 21日明らかにした.

そうピンは黒煙の炭素原子配列のような模様だが厚さは原子一つ位に過ぎない 2次元の炭素ナノ旧朝体を言う. 易しく言って普通黒煙で一重の原子層をむき出したことで, 電子が早く移動することができて伝導性が非常に良いところだ強盗など物理的性質もすぐれて新素材で注目されている.

現在国内外企業らは先を争って既存 30ナノ級フラッシュメモリーを取り替える 20ナノ級開発のために研究を進行している.

20ナノ級フラッシュメモリーでは電荷損失を阻むために電荷を不導体に閉じこめておいて抜き取る方式の ¥"電荷捕獲方式¥"を使うのに, 大部分現在開発中のこの方式フラッシュメモリーのゲート電極素材はジルファタンタルニュム(TaN) など金属だ.

しかしこのような金属電極電荷捕獲方式のフラッシュメモリーはまだ ¥"150℃以上温度で 10年以上データ保存¥" などの市場要求条件を満たすことができない.

研究陣がフラッシュメモリーで一番の下基板の電子を不導体層で引き上げて留守にするために電圧をかける部分である電極の素材をそうピンに変えると, データ保存時間が 10の 9二乗超まで増えた.

src=http://imgnews.naver.com/image/001/2011/11/21/AKR20111121090300017_02_i.jpg
これは既存金属電極フラッシュメモリーの保存時間の 10の 5二乗の 1万倍であるのみならず, 商用化条件である 10年(約 10の 8二乗)より長い時間だ.

データを書いて消すのに必要な電圧差も 10V(ボルト)で 17Vで 70% 位高くなった. フラッシュメモリーではこの電圧差が大きいほどもっとはっきりと情報を記録して消すことができて性能が良いことで評価を受ける.

研究陣の分析によればこのようにそうピン電極を使ったフラッシュメモリー半導体の性能と寿命が好きになることは, 軽い原子一重で成り立ったそうピンの特性のためだ.

金属電極の場合重くて厚くて下置かれたゲートの不導体層(酸化アルミニウム+ジルファマック+二酸化ケイ素など)に機械的ストレスを与えて縁切り部位が損傷されながら電荷が漏れるが, そうピンは基本的にそんな憂慮がないという話だ.

その上に金属は薄く, 軽くすれば代わりに抵抗が大きくなるしかないが, そうピンは薄いが伝導性まで非常にすぐれる.

造兵陣教授は今度研究成果はその間商用化に困難を経験していた 20ナノ級フラッシュメモリー開発に突破口になると何より既存生産公正にすぐ適用することができるし, フラッシュメモリーのみならずネーム・バリューが重要な自動車・国防・医療部門のシステム半導体にも応用されることができると説明した.

が論文はナノ科学分野権威誌である ¥"ナノレタス(Nano Letters)¥" オンライン版に載せられた.

<既存金属電極電荷捕獲方式フラッシュメモリー(左側)とそうピン電極フラッシュメモリー比較>

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20나노 플래시메모리 상용화 난관 넘었다

20나노 플래시메모리 상용화 난관 넘었다

연합뉴스| 기사입력 2011-11-21 12:02  

조병진 교수팀, "그래핀" 전극으로 성능 1만배 개선

(서울=연합뉴스) 신호경 기자 = 국내 연구진이 "그래핀"을 전극 소재로 활용, 플래시 메모리 반도체의 성능과 수명을 획기적으로 개선했다.

이 연구 성과를 활용하면 20나노미터(㎚,10억분의 1m)급 플래시 메모리 상용화를 앞당길 수 있을 것으로 기대된다.

교육과학기술부는 조병진 한국과학기술원(KAIST) 교수가 주도한 연구팀이 차세대 플래시 메모리(전하포획방식)의 게이트(반도체에서 전자를 가두고 비우는 그릇) 전극 소재를 금속에서 그래핀으로 바꿔 데이터 보존 시간과 수명을 크게 늘리는데 성공했다고 21일 밝혔다.

그래핀은 흑연의 탄소원자 배열과 같은 모양이지만 두께는 원자 하나 정도에 불과한 2차원의 탄소 나노 구조체를 말한다. 쉽게 말해 보통 흑연에서 한 겹의 원자층을 벗겨낸 것으로, 전자가 빠르게 이동할 수 있어 전도성이 매우 좋은 데다 강도 등 물리적 성질도 뛰어나 신소재로 주목받고 있다.

현재 국내외 기업들은 앞다퉈 기존 30나노급 플래시 메모리를 대체할 20나노급 개발을 위해 연구를 진행하고 있다.

20나노급 플래시 메모리에서는 전하 손실을 막기 위해 전하를 부도체에 가둬놓고 빼내는 방식의 "전하포획방식"을 사용하는데, 대부분 현재 개발 중인 이 방식 플래시 메모리의 게이트 전극 소재는 질화탄탈늄(TaN) 등 금속이다.

그러나 이같은 금속 전극 전하포획방식의 플래시 메모리는 아직까지 "150℃이상 온도에서 10년이상 데이터 보존" 등의 시장 요구 조건을 충족하지 못하고 있다.

연구진이 플래시 메모리에서 맨 아래 기판의 전자를 부도체층으로 끌어올리고 비우기 위해 전압을 거는 부분인 전극의 소재를 그래핀으로 바꾸자, 데이터 보존 시간이 10의 9제곱 초까지 늘었다.


이는 기존 금속 전극 플래시 메모리의 보존 시간인 10의 5제곱의 1만배일 뿐 아니라, 상용화 조건인 10년(약 10의 8제곱)보다 긴 시간이다.

데이터를 쓰고 지우는데 필요한 전압 차이도 10V(볼트)에서 17V로 70% 정도 높아졌다. 플래시 메모리에서는 이 전압 차이가 클수록 더 확실하게 정보를 기록하고 지울 수 있어 성능이 좋은 것으로 평가받는다.

연구진의 분석에 따르면 이처럼 그래핀 전극을 사용한 플래시 메모리 반도체의 성능과 수명이 좋아지는 것은, 가벼운 원자 한 겹으로 이뤄진 그래핀의 특성 때문이다.

금속 전극의 경우 무겁고 두꺼워 아래 놓인 게이트의 부도체층(산화알루미늄+질화막+이산화규소 등)에 기계적 스트레스를 줘 절연 부위가 손상되면서 전하가 새지만, 그래핀은 원천적으로 그런 우려가 없다는 얘기다.

더구나 금속은 얇게, 가볍게 만들면 대신 저항이 커질 수 밖에 없지만, 그래핀은 얇지만 전도성까지 매우 뛰어나다.

조병진 교수는 "이번 연구 성과는 그 동안 상용화에 어려움을 겪고 있던 20나노급 플래시 메모리 개발에 돌파구가 될 것"이라며 "무엇보다 기존 생산 공정에 바로 적용할 수 있고, 플래시 메모리 뿐 아니라 신뢰도가 중요한 자동차·국방·의료 부문의 시스템 반도체에도 응용될 수 있을 것"이라고 설명했다.

이 논문은 나노과학 분야 권위지인 "나노 레터스(Nano Letters)" 온라인판에 실렸다.

<기존 금속 전극 전하포획방식 플래쉬 메모리(왼쪽)와 그래핀 전극 플래쉬 메모리 비교>

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