삼성전자가 화성 17라인(S3 라인, 파운드리사업부 소속)에 극자외선(EUV) 노광 기술을 활용해 7나노 반도체 생산준비에 들어간다. 바로 옆에 짓고 있는 신공장은 이제 막 토목공사가 끝난 참이고 전기, 케미칼, 정화, 클린룸 등의 기반공사가 끝날 때까지 기다릴 수 없기 때문이다.
네덜란드 ASML로부터 대당 1500억원이 훌쩍 넘는 EUV 노광장비는 지난해 3대 도입했고, 올해 8대가 추가된다.
신공장은 6나노 반도체가 우선이다. 이후 이곳에서는 고객사 확보상황을 고려해 5나노까지 대응한다는 계획이다.
EUV를 이용한것은 삼성전자가 세계최초다. 경쟁사와의 격차를 벌리고 애플, 퀄컴과 같은 고객사를 계속해서 확보하기 위한 복안이다.
삼성전자는 EUV 7나노에 만족하지 않고 내년에 곧바로 6나노 양산을 목표로 삼았다. 이 또한 세계최초다.
EUV는 반도체 회로를 그리는 포토 리소그래피(Photo Lithography·노광)에 사용하는 ‘레이저’로 13.5nm의 짧은 파장이다. 현재 널리 사용하는 액체(주로 물)를 이용한 이머전(Immersion, 액침) 불화아르곤(ArF)의 경우 193nm의 파장을 사용한다. 파장이 더 짧아 오밀조밀하게 회로를 그릴 수 있다.
http://news.naver.com/main/read.nhn?mode=LSD∣=sec&sid1=105&oid=138&aid=0002058945
30나노 반도체도 만들 수 없는 세계에서 가장 열등한 기술력의 왜구에게는 꿈과 같은 이야기네요. ^ ^
