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기계硏, 온실가스 저감 플라즈마 기술 개발

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기계硏, 온실가스 저감 플라즈마 기술 개발

서울경제| 기사입력 2011-06-30 13:12 | 최종수정 2011-06-30 14:12 기사원문

한국기계연구원은 기존보다 절반 이하의 비용으로 반도체 공정에서 배출되는 지구온난화 가스를 99% 이상 절감할 수 있는 플라즈마 공정가스 처리기술 개발에 성공했다고 30일 밝혔다.

플라즈마연구실 송영훈 박사팀은 기존 장비가 설비 가격과 유지비용이 많이 든다는 단점에 착안, 플라즈마 발생을 위한 장치를 단순화시켜 설비 가격을 절반 이하로 낮췄다.

특히 연구팀은 진공 플라즈마를 이용한 새로운 기술로 2차 오염원이 발생되지 않게 했으며, 온실가스를 처리하는 경우에만 설비를 구동시켜 에너지 비용을 기존 소각공정의 10% 수준으로 절감시켰다.

관련 설비는 전 세계적으로 연간 3,000억 원 규모인 반도체 공정가스 소각설비를 대체할 수 있을 것으로 연구팀은 전망하고 있다.

송영훈 박사는 “이번 기술 개발로 친환경적인 반도체 공정을 위해 많은 노력을 기울이고 있는 국내외 반도체 업계에 큰 영향을 미칠 것”이라며 “향후 반도체 공정 외에도 LCD·OLED 등 디스플레이 공정의 온실가스 처리나 진공펌프 수명 연장에 적용될 가능성이 매우 높다”고 밝혔다.

대덕=구본혁기자 nbgkoo@sed.co.kr

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機械研, 温室ガス低減プラズマ技術開発

機械研, 温室ガス低減プラズマ技術開発

ソウル経済| 記事入力 2011-06-30 13:12 | 最終修正 2011-06-30 14:12 記事原文
src=http://imgnews.naver.com/image/011/2011/06/30/ldh1412201106301408010.jpg
韓国機械研究員は既存より半分以下の費用で半導体公正で排出される地球温暖化ガスを 99% 以上節減することができるプラズマ公正ガス処理技術開発に成功したと 30日明らかにした.

プラズマ研究室ソングヤングフン博士チームは既存装備が設備価格と維持費用がたくさん入るという短所に着眼, プラズマ発生のための装置を単純化させて設備価格を半分以下で低めた.

特に研究チームは真空プラズマを利用した新しい技術で 2次汚染源が発生されないようにしたし, 温室ガスを処理する場合にだけ設備を駆動させてエネルギー費用を既存焼却公正の 10% 水準で節減させた.

関連設備は全世界的に年間 3,000億ウォン規模である半導体公正ガス焼却設備を取り替えることができることで研究チームは見通している.

ソングヤングフン博士は “今度技術開発で親環境的な半導体公正のために多くの努力を傾けている国内外半導体業界に大きい影響を及ぼすこと”と言いながら “今後の半導体公正外にも LCD・OLED などディスプレー公正の温室ガス処理や真空ポンプ寿命延長に適用される可能性が非常に高い”と明らかにした.

大徳=グボンヒョックギザ nbgkoo@sed.co.kr

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